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何启光,汪承灏,刘桂云,周育英.淀积氧化锌压电薄膜用的直流平面磁控溅射系统的性能[J].,1985,4(4):17-22
淀积氧化锌压电薄膜用的直流平面磁控溅射系统的性能
中文摘要
:
本文叙述了我们设计改装的直流平面磁控溅射系统和用以淀积氧化锌压电薄膜的性能。 给出了磁控电极的结构和磁场分布;测量了系统的放电特性和淀积速率与混合气体压力、靶的输入功率的关系及磁控电极淀积的氧化锌薄膜的厚度分布;提出了提高靶材利用率的简单方法。最后,给出了用此系统淀积的氧化锌薄膜及其体波实验器件的实验结果。
英文摘要
:
DOI:
10.11684/j.issn.1000-310X.1985.04.005
中文关键词
:
平面磁控溅射
压电薄膜
淀积速率
气压
氧化锌
放电电流
直流
磁体
磁控放电
声学研究所
英文关键词
:
基金项目
:
作者
单位
何启光
中国科学院声学研究所
汪承灏
中国科学院声学研究所
刘桂云
中国科学院声学研究所
周育英
中国科学院声学研究所
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